Description du sujet de thèse
Domaine
Défis technologiques
Sujets de thèse
Développement d'un flow de data préparation de lithographique 3D pour le dessin du masque freeform
Contrat
Thèse
Description de l'offre
Avec l'avancement des technologies optoélectroniques, notamment des imageurs et AR/VR, des géométries 3D de dimensions sub-micrométriques sont plus en plus demandées par les clients industriels. Pour fabriquer ces structures 3D, la lithographie " grayscale " avec UV profond (248nm ou 193nm) est une technologie prometteuse compatible avec la production industrielle. Par contre, la maîtrise de cette technologie est complexe et nécessite un modèle de lithographie (optique + résine) avancée pour prédire le dessin du masque optique utilisé. La thèse permettra d'améliorer notre compréhension de nos model lithographie grayscale et ses limite, ayant pour d'améliorer et d'optimiser la model et la flow de data préparation ou masque design pour diminuer l'ecart entre simulation et pattern fabriquée. Masque freeform poussera les limites de lithographie grayscale pour attendre de pitch plus agressive souhaiter pour l'application optique et optoélectronique.
Université / école doctorale
Electronique, Electrotechnique, Automatique, Traitement du Signal (EEATS)
Université Grenoble Alpes
Localisation du sujet de thèse
Site
Grenoble
Critères candidat
Formation recommandée
M2 et ecole ingenieur en physique, optique, ou nanoscience
Demandeur
Disponibilité du poste
01/10/2025
Personne à contacter par le candidat
PALANCHOKE UJWOL < email supprimé pour raison de sécurité >
CEA
DRT/DPFT//LPAC
CEA-Leti
17 Av. des Martyrs, 38054 Grenoble
0438789663
Tuteur / Responsable de thèse
GOURGON Cécile < email supprimé pour raison de sécurité >
CNRS - Plato
DRT/LETI/DCOS/LTM
CEA-LETI, MINATEC-Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 GRENOBLE Cedex 9
FRANCE
04.38.78.98.37
En savoir plus
https://www.leti-cea.com/cea-tech/leti/english/Pages/Welcome.aspx
https://ltm.univ-grenoble-alpes.fr/
Domaine
Défis technologiques
Sujets de thèse
Développement d'un flow de data préparation de lithographique 3D pour le dessin du masque freeform
Contrat
Thèse
Description de l'offre
Avec l'avancement des technologies optoélectroniques, notamment des imageurs et AR/VR, des géométries 3D de dimensions sub-micrométriques sont plus en plus demandées par les clients industriels. Pour fabriquer ces structures 3D, la lithographie " grayscale " avec UV profond (248nm ou 193nm) est une technologie prometteuse compatible avec la production industrielle. Par contre, la maîtrise de cette technologie est complexe et nécessite un modèle de lithographie (optique + résine) avancée pour prédire le dessin du masque optique utilisé. La thèse permettra d'améliorer notre compréhension de nos model lithographie grayscale et ses limite, ayant pour d'améliorer et d'optimiser la model et la flow de data préparation ou masque design pour diminuer l'ecart entre simulation et pattern fabriquée. Masque freeform poussera les limites de lithographie grayscale pour attendre de pitch plus agressive souhaiter pour l'application optique et optoélectronique.
Université / école doctorale
Electronique, Electrotechnique, Automatique, Traitement du Signal (EEATS)
Université Grenoble Alpes
Localisation du sujet de thèse
Site
Grenoble
Critères candidat
Formation recommandée
M2 et ecole ingenieur en physique, optique, ou nanoscience
Demandeur
Disponibilité du poste
01/10/2025
Personne à contacter par le candidat
PALANCHOKE UJWOL < email supprimé pour raison de sécurité >
CEA
DRT/DPFT//LPAC
CEA-Leti
17 Av. des Martyrs, 38054 Grenoble
0438789663
Tuteur / Responsable de thèse
GOURGON Cécile < email supprimé pour raison de sécurité >
CNRS - Plato
DRT/LETI/DCOS/LTM
CEA-LETI, MINATEC-Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 GRENOBLE Cedex 9
FRANCE
04.38.78.98.37
En savoir plus
https://www.leti-cea.com/cea-tech/leti/english/Pages/Welcome.aspx
https://ltm.univ-grenoble-alpes.fr/
