Description du sujet de thèse
Domaine
Défis technologiques
Sujets de thèse
Epitaxie sélective basse température du SiGe(:B) pour les transistors pMOS FD-SOI
Contrat
Thèse
Description de l'offre
Dans le cadre de l'évolution des technologies silicium pour la microélectronique, les procédés mis en jeu dans la fabrication des dispositifs se doivent d'être optimisés. Plus précisément, l'épitaxie, technique de croissance cristalline, est utilisée pour fabriquer des transistors FD-SOI (Fully Depleted-Silicon On Insulator) au nœud technologique 10 nm dans le cadre du projet NextGen au CEA-Leti. Une épitaxie de semi-conducteurs de type Si et SiGe dopée ou non est développée afin d'améliorer les performances électriques des dispositifs. Le travail de thèse portera sur les épitaxies sélectives du SiGe(:B) pour les canaux et les sources/drains des transistors pMOS. Une comparaison des cinétiques de croissances du SiGe et du SiGe:B sera faite entre les croissances sous gaz porteur H2, couramment employé et le gaz porteur N2. Des stratégies innovantes de dépôt/gravure cyclées (CDE) seront également évaluées, l'objectif étant d'abaisser la température du procédé.
Université / école doctorale
Ecole Doctorale de Physique de Grenoble (EdPHYS)
Université Grenoble Alpes
Localisation du sujet de thèse
Site
Grenoble
Critères candidat
Formation recommandée
bac+5 (master) spécialité sciences des matériaux et/ou microélectronique
Demandeur
Disponibilité du poste
01/10/2025
Personne à contacter par le candidat
LESPIAUX Justine < email supprimé pour raison de sécurité >
CEA
DRT/DPFT
LETI/DPFT/SSURF, CEA-GRENOBLE, 17, Avenue des Martyrs 38054 Grenoble Cedex 9, France
0438785079
Tuteur / Responsable de thèse
HARTMANN Jean-Michel, François < email supprimé pour raison de sécurité >
CEA
DRT/DPFT
17 rue des Martyrs
38054 - Grenoble CEDEX 9
33 (0) 4 38 78 95 24
En savoir plus
https://www.linkedin.com/in/justine-lespiaux-epitaxy?originalSubdomain=fr
https://www.leti-cea.fr/cea-tech/leti/Pages/Accueil.aspx
Domaine
Défis technologiques
Sujets de thèse
Epitaxie sélective basse température du SiGe(:B) pour les transistors pMOS FD-SOI
Contrat
Thèse
Description de l'offre
Dans le cadre de l'évolution des technologies silicium pour la microélectronique, les procédés mis en jeu dans la fabrication des dispositifs se doivent d'être optimisés. Plus précisément, l'épitaxie, technique de croissance cristalline, est utilisée pour fabriquer des transistors FD-SOI (Fully Depleted-Silicon On Insulator) au nœud technologique 10 nm dans le cadre du projet NextGen au CEA-Leti. Une épitaxie de semi-conducteurs de type Si et SiGe dopée ou non est développée afin d'améliorer les performances électriques des dispositifs. Le travail de thèse portera sur les épitaxies sélectives du SiGe(:B) pour les canaux et les sources/drains des transistors pMOS. Une comparaison des cinétiques de croissances du SiGe et du SiGe:B sera faite entre les croissances sous gaz porteur H2, couramment employé et le gaz porteur N2. Des stratégies innovantes de dépôt/gravure cyclées (CDE) seront également évaluées, l'objectif étant d'abaisser la température du procédé.
Université / école doctorale
Ecole Doctorale de Physique de Grenoble (EdPHYS)
Université Grenoble Alpes
Localisation du sujet de thèse
Site
Grenoble
Critères candidat
Formation recommandée
bac+5 (master) spécialité sciences des matériaux et/ou microélectronique
Demandeur
Disponibilité du poste
01/10/2025
Personne à contacter par le candidat
LESPIAUX Justine < email supprimé pour raison de sécurité >
CEA
DRT/DPFT
LETI/DPFT/SSURF, CEA-GRENOBLE, 17, Avenue des Martyrs 38054 Grenoble Cedex 9, France
0438785079
Tuteur / Responsable de thèse
HARTMANN Jean-Michel, François < email supprimé pour raison de sécurité >
CEA
DRT/DPFT
17 rue des Martyrs
38054 - Grenoble CEDEX 9
33 (0) 4 38 78 95 24
En savoir plus
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https://www.leti-cea.fr/cea-tech/leti/Pages/Accueil.aspx
