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Caractérisation et optimisation de HBT III-V sur Silicium pour applications 6G et datacom

Research / Doctorate 25 to 36 months

Grenoble (France)

Published on 10 June 2026

  • Contract

    Research / Doctorate 25 to 36 months

  • Location

    Grenoble (France)

  • Start date

    As soon as possible

  • Salary

    Information not provided

  • Remote working

    Not specified

CEA illustration
Description du sujet de thèse

Domaine

Défis technologiques

Sujets de thèse

Caractérisation et optimisation de HBT III-V sur Silicium pour applications 6G et datacom

Contrat

Thèse

Description de l'offre

Face à l'explosion de la demande en contenu numérique, les systèmes 6G sont confrontés à des défis majeurs, notamment le développement d'amplificateurs de puissance pour les fréquences sub-THz. Ces fréquences promettent des débits de données ultra-rapides, mais repoussent les limites des technologies silicium actuelles. Dans les datacenters IA, la communication optique entre les GPU est indispensable pour réduire la consommation énergétique totale, par rapport au câblage filaire classique. Des dispositifs à très haute vitesse sont alors nécessaires pour les circuits de commande électriques des photodétecteurs et des lasers. Les transistors bipolaires à hétérojonction (HBT) à base d'InP sur de grands substrats de silicium offrent une solution prometteuse, alliant performances à haute vitesse et pertes système minimales. Cette technologie présente toutefois le défi d'intégrer les couches III-V aux procédés compatibles CMOS, tout en ouvrant la voie à de nouvelles architectures de dispositifs prometteuses, permettant à la fois la réduction des éléments parasites et la gestion de l'auto-échauffement.

Ce programme doctoral vise à orienter les développements du Leti sur les HBT III-V sur silicium afin d'optimiser l'architecture du dispositif et d'améliorer ses performances RF. Dans ce programme, l'étudiant aura la charge de :

- Réaliser la caractérisation électrique de différentes géométries de dispositifs et de diverses architectures technologiques par des mesures DC et RF telles que les caractéristiques courant-tension (I-V), l'analyse thermique, les paramètres S et éventuellement Load-Pull.
- Simuler les principaux effets parasites et de nouvelles architectures de dispositifs afin d'en comprendre les limitations.
- Collaborer étroitement avec les ingénieurs procédés pour relier les résultats électriques aux choix de fabrication et optimiser les dispositifs.

Université / école doctorale

Localisation du sujet de thèse

Site

Grenoble

Critères candidat

Formation recommandée

Formation ingénieur RF

Demandeur

Disponibilité du poste

01/10/2026

Personne à contacter par le candidat

DIVAY Alexis < email deleted for security reasons >
CEA
DRT/DCOS//LTA
17 Avenue des Martyrs, 38000 Grenoble
04.38.78.47.52

Tuteur / Responsable de thèse

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Study level

Doctorate

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Technology

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